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出光MEK(メチルエチルケトン)

特長

印刷インキ溶剤
印刷インキ溶剤
  • 自社独自開発の技術
  • 水分の含有率が低く、高純度
  • 不純物として、アルコール類(SBA等)をほとんど含まない

出光MEK(メチルエチルケトン)製造装置は、画期的な技術である直接水和法を採用することにより、プロセスの大幅な簡略化、省エネルギー化、装置腐食の回避など革新的な特長を持って、1985年9月に誕生しました。

本装置には、世界で始めて超臨界ガス抽出技術をMEKの中間体であるセカンダリーブタノール(SBA)の製造技術として採用しています。

この実績が広く化学工業に貢献することが認められ、1990年5月に(社)石油学会より、栄誉ある“石油学会賞”を受賞しました。

溶剤として広く使われているMEKは、その原料であるSBAを脱水素・精製することにより製造されます。このSBAの製造は一般的には硫酸を使用する間接水和法が採用されていますが、硫酸による装置腐食、排水処理、複雑な装置などの問題点がありました。

わが社ではこれらの問題を解決する為に、ヘテロポリ酸水溶液を触媒とする直接水和法の検討を行い、ブテンの直接水和技術を確立しました。それと同時に水和反応の条件がブテンの超臨界状態下にあることに着目し、ブテン - 水 - SBA間の特異な気液平衡関係を利用して、SBAの効率的な分離方法を確立しました。このことにより、
  • 硫酸による装置腐食の回避
  • エネルギー消費の減少
  • 排水処理、硫酸処理装置の排除
  • 装置の簡略化
など、すぐれた特長をもった新しいブテン水和プロセスが完成しました。
  • 水和プロセス
  • 水和プロセス 化学式

用途

  • 有機合成品の製造原料(メチルエチルケトオキシム、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルヨノン等)がほとんど含まれない
  • 塗料溶剤
  • 接着剤、印刷インキ等の溶剤
  • 樹脂加工溶剤
  • 各種抽出溶剤(脱ろう溶剤等)

荷姿

船、ローリー、ドラム(165kg)

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